株式会社オプトラン

基本情報

法人番号

1030001056764

法人名称/商号

株式会社オプトラン

法人名称/商号（カナ）

オプトラン

法人名称/商号（英語）

-

所在地

〒3500801
埼玉県川越市大字竹野１０番地１

代表者

代表取締役社長執行役員　 林　為平

資本金

400,000,000円

従業員数

-

営業品目

-

事業概要

-

設立年月日

-

創業年

-

データ最終更新日

2018年05月18日

特許情報

• 特許　2015014228

  2015年01月28日

  特許分類

  C23C 14/24
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  成膜方法及び成膜装置

• 特許　2015014228

  2015年01月28日

  特許分類

  C23C 14/24 D
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  成膜方法及び成膜装置

• 特許　2015014228

  2015年01月28日

  特許分類

  G02B 1/10
  光学

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  成膜方法及び成膜装置

• 特許　2015014228

  2015年01月28日

  特許分類

  G02B 1/10 Z
  光学

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  成膜方法及び成膜装置

• 特許　2015245171

  2015年12月16日

  特許分類

  C23C 14/12
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  成膜装置および成膜方法

• 特許　2015245171

  2015年12月16日

  特許分類

  C23C 14/24
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  成膜装置および成膜方法

• 特許　2015245171

  2015年12月16日

  特許分類

  C23C 14/24 C
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  成膜装置および成膜方法

• 特許　2018501794

  2017年02月24日

  特許分類

  G02B 1/11
  光学

  テーマコード

  2H148

  発明の名称

  カメラ構造、情報通信機器

• 特許　2018501794

  2017年02月24日

  特許分類

  G02B 1/115
  光学

  テーマコード

  2H148

  発明の名称

  カメラ構造、情報通信機器

• 特許　2018501794

  2017年02月24日

  特許分類

  G02B 1/118
  光学

  テーマコード

  2H148

  発明の名称

  カメラ構造、情報通信機器

• 特許　2018501794

  2017年02月24日

  特許分類

  G02B 1/18
  光学

  テーマコード

  2H148

  発明の名称

  カメラ構造、情報通信機器

• 特許　2018501794

  2017年02月24日

  特許分類

  G02B 5/22
  光学

  テーマコード

  2H148

  発明の名称

  カメラ構造、情報通信機器

• 特許　2018501794

  2017年02月24日

  特許分類

  G02B 5/26
  光学

  テーマコード

  2H148

  発明の名称

  カメラ構造、情報通信機器

• 特許　2018501794

  2017年02月24日

  特許分類

  G02B 5/28
  光学

  テーマコード

  2H148

  発明の名称

  カメラ構造、情報通信機器

• 特許　2018501794

  2017年02月24日

  特許分類

  H01L 27/146
  基本的電気素子

  テーマコード

  2H148

  発明の名称

  カメラ構造、情報通信機器

• 特許　2018501794

  2017年02月24日

  特許分類

  H01L 27/146 D
  基本的電気素子

  テーマコード

  2H148

  発明の名称

  カメラ構造、情報通信機器

• 特許　2018501794

  2017年02月24日

  特許分類

  H04N 5/225
  電気通信技術

  テーマコード

  2H148

  発明の名称

  カメラ構造、情報通信機器

• 特許　2018501794

  2017年02月24日

  特許分類

  H04N 5/225 400
  電気通信技術

  テーマコード

  2H148

  発明の名称

  カメラ構造、情報通信機器

• 特許　2018501794

  2017年02月24日

  特許分類

  H04N 5/225 700
  電気通信技術

  テーマコード

  2H148

  発明の名称

  カメラ構造、情報通信機器

• 特許　2018501794

  2017年02月24日

  特許分類

  H04N 5/335
  電気通信技術

  テーマコード

  2H148

  発明の名称

  カメラ構造、情報通信機器

• 特許　2018529082

  2018年02月23日

  特許分類

  G02B 1/11
  光学

  テーマコード

  2H100

  発明の名称

  カメラ構造、撮像装置

• 特許　2018529082

  2018年02月23日

  特許分類

  G02B 1/118
  光学

  テーマコード

  2H100

  発明の名称

  カメラ構造、撮像装置

• 特許　2018529082

  2018年02月23日

  特許分類

  G02B 5/22
  光学

  テーマコード

  2H100

  発明の名称

  カメラ構造、撮像装置

• 特許　2018529082

  2018年02月23日

  特許分類

  G02B 5/26
  光学

  テーマコード

  2H100

  発明の名称

  カメラ構造、撮像装置

• 特許　2018529082

  2018年02月23日

  特許分類

  G02B 5/28
  光学

  テーマコード

  2H100

  発明の名称

  カメラ構造、撮像装置

• 特許　2018529082

  2018年02月23日

  特許分類

  G03B 11/00
  写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ

  テーマコード

  2H100

  発明の名称

  カメラ構造、撮像装置

• 特許　2018529082

  2018年02月23日

  特許分類

  G03B 17/02
  写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ

  テーマコード

  2H100

  発明の名称

  カメラ構造、撮像装置

• 特許　2010123331

  2010年05月28日

  特許分類

  C23C 14/24
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  有機膜形成用蒸着材料

• 特許　2010123331

  2010年05月28日

  特許分類

  C23C 14/24 A
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  有機膜形成用蒸着材料

• 特許　2010123331

  2010年05月28日

  特許分類

  C23C 14/24 E
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  有機膜形成用蒸着材料

• 特許　2010157297

  2010年07月09日

  特許分類

  C23C 14/50
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  成膜基板ホルダ及び成膜装置

• 特許　2010157297

  2010年07月09日

  特許分類

  C23C 14/50 F
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  成膜基板ホルダ及び成膜装置

• 特許　2012116533

  2012年05月22日

  特許分類

  B32B 17/06
  積層体

  テーマコード

  5B087

  発明の名称

  静電容量型タッチパネル基板及びその製造方法並びに製造装置

• 特許　2012116533

  2012年05月22日

  特許分類

  G06F 3/041
  計算; 計数

  テーマコード

  5B087

  発明の名称

  静電容量型タッチパネル基板及びその製造方法並びに製造装置

• 特許　2012116533

  2012年05月22日

  特許分類

  G06F 3/041 330D
  計算; 計数

  テーマコード

  5B087

  発明の名称

  静電容量型タッチパネル基板及びその製造方法並びに製造装置

• 特許　2012116533

  2012年05月22日

  特許分類

  G06F 3/041 350C
  計算; 計数

  テーマコード

  5B087

  発明の名称

  静電容量型タッチパネル基板及びその製造方法並びに製造装置

• 特許　2012116533

  2012年05月22日

  特許分類

  G06F 3/044
  計算; 計数

  テーマコード

  5B087

  発明の名称

  静電容量型タッチパネル基板及びその製造方法並びに製造装置

• 特許　2012116533

  2012年05月22日

  特許分類

  G06F 3/044 E
  計算; 計数

  テーマコード

  5B087

  発明の名称

  静電容量型タッチパネル基板及びその製造方法並びに製造装置

• 特許　2012261368

  2012年11月29日

  特許分類

  C23C 14/24
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  真空蒸着源及びそれを用いた真空蒸着方法

• 特許　2012261368

  2012年11月29日

  特許分類

  C23C 14/24 A
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  真空蒸着源及びそれを用いた真空蒸着方法

• 特許　2013002904

  2013年01月10日

  特許分類

  C23C 14/54
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  薄膜形成装置、薄膜形成方法及び光学膜厚モニタ装置

• 特許　2013002904

  2013年01月10日

  特許分類

  C23C 14/54 F
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  薄膜形成装置、薄膜形成方法及び光学膜厚モニタ装置

• 特許　2013002904

  2013年01月10日

  特許分類

  G02B 5/28
  光学

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  薄膜形成装置、薄膜形成方法及び光学膜厚モニタ装置

• 特許　2013237223

  2013年11月15日

  特許分類

  C23C 14/54
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  薄膜形成装置および薄膜形成方法

• 特許　2013237223

  2013年11月15日

  特許分類

  C23C 14/54 E
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  薄膜形成装置および薄膜形成方法

• 特許　2013237223

  2013年11月15日

  特許分類

  G02B 1/10 A
  光学

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  薄膜形成装置および薄膜形成方法

• 特許　2013237223

  2013年11月15日

  特許分類

  G02B 1/11
  光学

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  薄膜形成装置および薄膜形成方法

• 特許　2013237223

  2013年11月15日

  特許分類

  G02B 5/00
  光学

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  薄膜形成装置および薄膜形成方法

• 特許　2013237223

  2013年11月15日

  特許分類

  G02B 5/00 A
  光学

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  薄膜形成装置および薄膜形成方法