ティーエムシー株式会社

基本情報

法人番号

1122001004677

法人名称/商号

ティーエムシー株式会社

法人名称/商号（カナ）

ティーエムシー

法人名称/商号（英語）

-

所在地

〒6048153
京都府京都市中京区烏丸通四条上る笋町６９１番地

代表者

-

資本金

-

従業員数

-

営業品目

-

事業概要

-

設立年月日

-

創業年

-

データ最終更新日

2018年10月02日

補助金情報

• 職場意識改善助成金

  2017年12月15日

  500,000円

  府省

  厚生労働省

特許情報

• 特許　2014145403

  2014年06月30日

  特許分類

  C01B 33/02
  無機化学

  テーマコード

  5H050

  発明の名称

  シリコン微細粒子

• 特許　2014145403

  2014年06月30日

  特許分類

  C01B 33/02 Z
  無機化学

  テーマコード

  5H050

  発明の名称

  シリコン微細粒子

• 特許　2014145403

  2014年06月30日

  特許分類

  H01M 4/38
  基本的電気素子

  テーマコード

  5H050

  発明の名称

  シリコン微細粒子

• 特許　2014145403

  2014年06月30日

  特許分類

  H01M 4/38 Z
  基本的電気素子

  テーマコード

  5H050

  発明の名称

  シリコン微細粒子

• 特許　2016228753

  2016年11月25日

  特許分類

  H01M 4/13
  基本的電気素子

  テーマコード

  5H050

  発明の名称

  骨格形成剤及びこれを用いた負極

• 特許　2016228753

  2016年11月25日

  特許分類

  H01M 4/134
  基本的電気素子

  テーマコード

  5H050

  発明の名称

  骨格形成剤及びこれを用いた負極

• 特許　2016228753

  2016年11月25日

  特許分類

  H01M 4/38
  基本的電気素子

  テーマコード

  5H050

  発明の名称

  骨格形成剤及びこれを用いた負極

• 特許　2016228753

  2016年11月25日

  特許分類

  H01M 4/38 Z
  基本的電気素子

  テーマコード

  5H050

  発明の名称

  骨格形成剤及びこれを用いた負極

• 特許　2016228753

  2016年11月25日

  特許分類

  H01M 4/48
  基本的電気素子

  テーマコード

  5H050

  発明の名称

  骨格形成剤及びこれを用いた負極

• 特許　2016228753

  2016年11月25日

  特許分類

  H01M 4/62
  基本的電気素子

  テーマコード

  5H050

  発明の名称

  骨格形成剤及びこれを用いた負極

• 特許　2016228753

  2016年11月25日

  特許分類

  H01M 4/62 Z
  基本的電気素子

  テーマコード

  5H050

  発明の名称

  骨格形成剤及びこれを用いた負極

• 特許　2010265715

  2010年11月11日

  特許分類

  C01B 33/033
  無機化学

  テーマコード

  4G072

  発明の名称

  高純度シリコン微粉末の製造装置

• 特許　2010265716

  2010年11月11日

  特許分類

  B01D 53/14
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D002

  発明の名称

  排ガス処理装置

• 特許　2010265716

  2010年11月11日

  特許分類

  B01D 53/14 C
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D002

  発明の名称

  排ガス処理装置

• 特許　2010265716

  2010年11月11日

  特許分類

  B01D 53/14 102
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D002

  発明の名称

  排ガス処理装置

• 特許　2010265716

  2010年11月11日

  特許分類

  B01D 53/14 103
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D002

  発明の名称

  排ガス処理装置

• 特許　2010265716

  2010年11月11日

  特許分類

  B01D 53/34 134B
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D002

  発明の名称

  排ガス処理装置

• 特許　2010265716

  2010年11月11日

  特許分類

  B01D 53/34 136Z
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D002

  発明の名称

  排ガス処理装置

• 特許　2010265716

  2010年11月11日

  特許分類

  B01D 53/64
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D002

  発明の名称

  排ガス処理装置

• 特許　2010265716

  2010年11月11日

  特許分類

  B01D 53/68
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D002

  発明の名称

  排ガス処理装置

• 特許　2010265716

  2010年11月11日

  特許分類

  B01D 53/77
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D002

  発明の名称

  排ガス処理装置

• 特許　2010265716

  2010年11月11日

  特許分類

  B03B 5/00 ZAB
  液体による, または, 風力テ－ブルまたはジグによる固体物質の分離; 固体物質または流体から固体物質の磁気または静電気による分離, 高圧電界による分離

  テーマコード

  4D002

  発明の名称

  排ガス処理装置

• 特許　2010265716

  2010年11月11日

  特許分類

  B03B 5/00 ZABZ
  液体による, または, 風力テ－ブルまたはジグによる固体物質の分離; 固体物質または流体から固体物質の磁気または静電気による分離, 高圧電界による分離

  テーマコード

  4D002

  発明の名称

  排ガス処理装置

• 特許　2010265716

  2010年11月11日

  特許分類

  C01B 33/033
  無機化学

  テーマコード

  4D002

  発明の名称

  排ガス処理装置

• 特許　2010265716

  2010年11月11日

  特許分類

  C02F 1/46 101B
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4D002

  発明の名称

  排ガス処理装置

• 特許　2010265716

  2010年11月11日

  特許分類

  C02F 1/461
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4D002

  発明の名称

  排ガス処理装置

• 特許　2010265717

  2010年11月11日

  特許分類

  C01B 33/033
  無機化学

  テーマコード

  4G072

  発明の名称

  高純度シリコン微粉末の製造装置