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大陽日酸CSE株式会社

法人番号:9013401005343

大陽日酸CSE株式会社は、 神奈川県川崎市川崎区小島町6番地2にある法人です。

基本情報

法人番号
9013401005343
法人名称/商号
大陽日酸CSE株式会社
法人名称/商号(カナ)
タイヨウニッサンシーエスイー
法人名称/商号(英語)
-
所在地
〒2100861
神奈川県川崎市川崎区小島町6番地2
代表者
-
資本金
-
従業員数

-

営業品目
-
事業概要

-

設立年月日
-
創業年
-
データ最終更新日
2018年06月19日

特許情報

  • 特許 2014086439

    2014年04月18日
    特許分類
    C23C 16/458
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2014086439

    2014年04月18日
    特許分類
    H01L 21/205
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2014086439

    2014年04月18日
    特許分類
    H01L 21/68 N
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2014086439

    2014年04月18日
    特許分類
    H01L 21/683
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2014100688

    2014年05月14日
    特許分類
    C23C 16/44
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K030

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2014100688

    2014年05月14日
    特許分類
    C23C 16/44 B
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K030

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2014100688

    2014年05月14日
    特許分類
    H01L 21/205
    基本的電気素子
    テーマコード
    4K030

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2014206329

    2014年10月07日
    特許分類
    C23C 16/44
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置における基板搬送方法及び装置

  • 特許 2014206329

    2014年10月07日
    特許分類
    C23C 16/44 F
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置における基板搬送方法及び装置

  • 特許 2014206329

    2014年10月07日
    特許分類
    H01L 21/205
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置における基板搬送方法及び装置

  • 特許 2014206329

    2014年10月07日
    特許分類
    H01L 21/677
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置における基板搬送方法及び装置

  • 特許 2014206329

    2014年10月07日
    特許分類
    H01L 21/68 A
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置における基板搬送方法及び装置

  • 特許 2015012594

    2015年01月26日
    特許分類
    C23C 16/458
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2015012594

    2015年01月26日
    特許分類
    H01L 21/205
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2015069532

    2015年03月30日
    特許分類
    C23C 16/46
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    高温加熱装置、気相成長装置、及び気相成長方法

  • 特許 2015069532

    2015年03月30日
    特許分類
    C30B 25/10
    結晶成長
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    高温加熱装置、気相成長装置、及び気相成長方法

  • 特許 2015069532

    2015年03月30日
    特許分類
    H01L 21/205
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    高温加熱装置、気相成長装置、及び気相成長方法

  • 特許 2015069532

    2015年03月30日
    特許分類
    H01L 21/324
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    高温加熱装置、気相成長装置、及び気相成長方法

  • 特許 2015069532

    2015年03月30日
    特許分類
    H01L 21/324 G
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    高温加熱装置、気相成長装置、及び気相成長方法

  • 特許 2016102216

    2016年05月23日
    特許分類
    C23C 16/44
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    反応装置

  • 特許 2016102216

    2016年05月23日
    特許分類
    C23C 16/44 J
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    反応装置

  • 特許 2016102216

    2016年05月23日
    特許分類
    H01L 21/205
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    反応装置

  • 特許 2016102216

    2016年05月23日
    特許分類
    H01L 21/302 101H
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    反応装置

  • 特許 2016102216

    2016年05月23日
    特許分類
    H01L 21/304
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    反応装置

  • 特許 2016102216

    2016年05月23日
    特許分類
    H01L 21/304 645Z
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    反応装置

  • 特許 2016102216

    2016年05月23日
    特許分類
    H01L 21/3065
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    反応装置

  • 特許 2010013070

    2010年01月25日
    特許分類
    C23C 16/44
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    MOCVD装置

  • 特許 2010013070

    2010年01月25日
    特許分類
    C23C 16/44 E
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    MOCVD装置

  • 特許 2010013070

    2010年01月25日
    特許分類
    C23C 16/44 J
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    MOCVD装置

  • 特許 2010013070

    2010年01月25日
    特許分類
    H01L 21/205
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    MOCVD装置

  • 特許 2011041193

    2011年02月28日
    特許分類
    C23C 16/458
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    サセプタカバー、該サセプタカバーを備えた気相成長装置

  • 特許 2011041193

    2011年02月28日
    特許分類
    H01L 21/205
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    サセプタカバー、該サセプタカバーを備えた気相成長装置

  • 特許 2011041193

    2011年02月28日
    特許分類
    H01L 21/673
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    サセプタカバー、該サセプタカバーを備えた気相成長装置

  • 特許 2011041193

    2011年02月28日
    特許分類
    H01L 21/68 U
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    サセプタカバー、該サセプタカバーを備えた気相成長装置

  • 特許 2011077390

    2011年03月31日
    特許分類
    C23C 16/458
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2011077390

    2011年03月31日
    特許分類
    H01L 21/31
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2011077390

    2011年03月31日
    特許分類
    H01L 21/31 B
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2011077390

    2011年03月31日
    特許分類
    H01L 21/68
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2011077390

    2011年03月31日
    特許分類
    H01L 21/68 F
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2011259488

    2011年11月28日
    特許分類
    C23C 16/52
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F131

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2011259488

    2011年11月28日
    特許分類
    H01L 21/205
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F131

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2011259488

    2011年11月28日
    特許分類
    H01L 21/68 N
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F131

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2011259488

    2011年11月28日
    特許分類
    H01L 21/683
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F131

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2011519748

    2010年06月11日
    特許分類
    C23C 14/50
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2011519748

    2010年06月11日
    特許分類
    C23C 14/50 H
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2011519748

    2010年06月11日
    特許分類
    C23C 16/458
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2011519748

    2010年06月11日
    特許分類
    H01L 21/205
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2011519748

    2010年06月11日
    特許分類
    H01L 21/68 N
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2011519748

    2010年06月11日
    特許分類
    H01L 21/683
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2012066653

    2012年03月23日
    特許分類
    C23C 16/46
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2012066653

    2012年03月23日
    特許分類
    H01L 21/205
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2012151967

    2012年07月06日
    特許分類
    C23C 16/458
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F131

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2012151967

    2012年07月06日
    特許分類
    H01L 21/205
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F131

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2012151967

    2012年07月06日
    特許分類
    H01L 21/31
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F131

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2012151967

    2012年07月06日
    特許分類
    H01L 21/31 B
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F131

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2012151967

    2012年07月06日
    特許分類
    H01L 21/68 N
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F131

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2012151967

    2012年07月06日
    特許分類
    H01L 21/683
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F131

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2012221856

    2012年10月04日
    特許分類
    C23C 16/44
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2012221856

    2012年10月04日
    特許分類
    C23C 16/44 B
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2012221856

    2012年10月04日
    特許分類
    H01L 21/205
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2012221856

    2012年10月04日
    特許分類
    H01L 21/68 N
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2012221856

    2012年10月04日
    特許分類
    H01L 21/683
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2012221858

    2012年10月04日
    特許分類
    C23C 16/455
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2012221858

    2012年10月04日
    特許分類
    H01L 21/205
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2012221860

    2012年10月04日
    特許分類
    C23C 16/44
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2012221860

    2012年10月04日
    特許分類
    C23C 16/44 F
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2012221860

    2012年10月04日
    特許分類
    H01L 21/205
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置

  • 特許 2013101258

    2013年05月13日
    特許分類
    C23C 16/44
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置および気相成長装置の部材搬送方法

  • 特許 2013101258

    2013年05月13日
    特許分類
    C23C 16/44 G
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置および気相成長装置の部材搬送方法

  • 特許 2013101258

    2013年05月13日
    特許分類
    C23C 16/44 J
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置および気相成長装置の部材搬送方法

  • 特許 2013101258

    2013年05月13日
    特許分類
    H01L 21/205
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置および気相成長装置の部材搬送方法

  • 特許 2013101258

    2013年05月13日
    特許分類
    H01L 21/677
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置および気相成長装置の部材搬送方法

  • 特許 2013101258

    2013年05月13日
    特許分類
    H01L 21/68 A
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F045

    発明の名称

    気相成長装置および気相成長装置の部材搬送方法