多摩化学工業株式会社

基本情報

法人番号

9020001075221

法人名称/商号

多摩化学工業株式会社

法人名称/商号（カナ）

タマカガクコウギョウ

法人名称/商号（英語）

-

所在地

〒2100005
神奈川県川崎市川崎区東田町６番地１

代表者

-

資本金

-

従業員数

-

営業品目

-

事業概要

-

設立年月日

-

創業年

-

データ最終更新日

2018年07月03日

届出認定情報

• 2001年04月01日

  アルコール事業

  許可使用者

  府省：経済産業省

• 2021年09月17日

  ＰＲＴＲ

  化学工業

  部門：経済産業大臣

  府省：経済産業省

• 2021年09月17日

  ＰＲＴＲ

  化学工業

  部門：経済産業大臣

  府省：経済産業省

• 2021年09月17日

  ＰＲＴＲ

  化学工業

  部門：経済産業大臣

  府省：経済産業省

• 2021年09月17日

  ＰＲＴＲ

  化学工業

  部門：経済産業大臣

  府省：経済産業省

特許情報

• 特許　2011077083

  2011年03月31日

  特許分類

  B01D 21/01
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D006

  発明の名称

  現像廃液の再生装置及び再生方法

• 特許　2011077083

  2011年03月31日

  特許分類

  B01D 21/01 102
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D006

  発明の名称

  現像廃液の再生装置及び再生方法

• 特許　2011077083

  2011年03月31日

  特許分類

  B01D 21/01 105
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D006

  発明の名称

  現像廃液の再生装置及び再生方法

• 特許　2011077083

  2011年03月31日

  特許分類

  B01D 21/01 110
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D006

  発明の名称

  現像廃液の再生装置及び再生方法

• 特許　2011077083

  2011年03月31日

  特許分類

  B01D 61/02
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D006

  発明の名称

  現像廃液の再生装置及び再生方法

• 特許　2011077083

  2011年03月31日

  特許分類

  B01D 61/02 500
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D006

  発明の名称

  現像廃液の再生装置及び再生方法

• 特許　2011077083

  2011年03月31日

  特許分類

  B01D 61/14
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D006

  発明の名称

  現像廃液の再生装置及び再生方法

• 特許　2011077083

  2011年03月31日

  特許分類

  B01D 61/14 500
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D006

  発明の名称

  現像廃液の再生装置及び再生方法

• 特許　2011077083

  2011年03月31日

  特許分類

  B01D 61/18
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D006

  発明の名称

  現像廃液の再生装置及び再生方法

• 特許　2011077083

  2011年03月31日

  特許分類

  B01D 61/58
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D006

  発明の名称

  現像廃液の再生装置及び再生方法

• 特許　2011077083

  2011年03月31日

  特許分類

  C02F 1/44
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4D006

  発明の名称

  現像廃液の再生装置及び再生方法

• 特許　2011077083

  2011年03月31日

  特許分類

  C02F 1/44 A
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4D006

  発明の名称

  現像廃液の再生装置及び再生方法

• 特許　2011077083

  2011年03月31日

  特許分類

  C02F 1/44 D
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4D006

  発明の名称

  現像廃液の再生装置及び再生方法

• 特許　2011077083

  2011年03月31日

  特許分類

  C02F 1/44 F
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4D006

  発明の名称

  現像廃液の再生装置及び再生方法

• 特許　2011077083

  2011年03月31日

  特許分類

  C02F 1/52
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4D006

  発明の名称

  現像廃液の再生装置及び再生方法

• 特許　2011077083

  2011年03月31日

  特許分類

  C02F 1/52 H
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4D006

  発明の名称

  現像廃液の再生装置及び再生方法

• 特許　2011077083

  2011年03月31日

  特許分類

  C02F 1/56
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4D006

  発明の名称

  現像廃液の再生装置及び再生方法

• 特許　2011077083

  2011年03月31日

  特許分類

  C02F 1/56 H
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4D006

  発明の名称

  現像廃液の再生装置及び再生方法

• 特許　2011077083

  2011年03月31日

  特許分類

  G03F 7/26
  写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ

  テーマコード

  4D006

  発明の名称

  現像廃液の再生装置及び再生方法

• 特許　2011143886

  2011年06月29日

  特許分類

  C07C209/84
  有機化学

  テーマコード

  4K021

  発明の名称

  水酸化テトラアルキルアンモニウム含有廃液の再生処理方法

• 特許　2011143886

  2011年06月29日

  特許分類

  C07C211/63
  有機化学

  テーマコード

  4K021

  発明の名称

  水酸化テトラアルキルアンモニウム含有廃液の再生処理方法

• 特許　2011143886

  2011年06月29日

  特許分類

  C25B 3/04
  電気分解または電気泳動方法; そのための装置

  テーマコード

  4K021

  発明の名称

  水酸化テトラアルキルアンモニウム含有廃液の再生処理方法

• 特許　2011143886

  2011年06月29日

  特許分類

  C25B 15/08
  電気分解または電気泳動方法; そのための装置

  テーマコード

  4K021

  発明の名称

  水酸化テトラアルキルアンモニウム含有廃液の再生処理方法

• 特許　2011143886

  2011年06月29日

  特許分類

  G03F 7/30
  写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ

  テーマコード

  4K021

  発明の名称

  水酸化テトラアルキルアンモニウム含有廃液の再生処理方法

• 特許　2012093811

  2012年04月17日

  特許分類

  C01B 33/148
  無機化学

  テーマコード

  4G072

  発明の名称

  中性コロイダルシリカ分散液の分散安定化方法及び分散安定性に優れた中性コロイダルシリカ分散液

• 特許　2012536447

  2011年09月26日

  特許分類

  C07C209/84
  有機化学

  テーマコード

  5F157

  発明の名称

  半導体基板用アルカリ性処理液の精製方法及び精製装置

• 特許　2012536447

  2011年09月26日

  特許分類

  C07C211/63
  有機化学

  テーマコード

  5F157

  発明の名称

  半導体基板用アルカリ性処理液の精製方法及び精製装置

• 特許　2012536447

  2011年09月26日

  特許分類

  H01L 21/304
  基本的電気素子

  テーマコード

  5F157

  発明の名称

  半導体基板用アルカリ性処理液の精製方法及び精製装置

• 特許　2012536447

  2011年09月26日

  特許分類

  H01L 21/304 647Z
  基本的電気素子

  テーマコード

  5F157

  発明の名称

  半導体基板用アルカリ性処理液の精製方法及び精製装置

• 特許　2012536447

  2011年09月26日

  特許分類

  H01L 21/304 648F
  基本的電気素子

  テーマコード

  5F157

  発明の名称

  半導体基板用アルカリ性処理液の精製方法及び精製装置