株式会社高純度化学研究所

基本情報

法人番号

9030001068752

法人名称/商号

株式会社高純度化学研究所

法人名称/商号（カナ）

コウジュンドカガクケンキュウジョ

法人名称/商号（英語）

-

所在地

〒3500214
埼玉県坂戸市千代田５丁目１番２８号

代表者

-

資本金

-

従業員数

-

営業品目

ゴム・皮革・プラスチック製品 、 窯業・土石製品類 、 非鉄金属・金属製品類 、 一般・産業用機器類 、 電気・通信用機器類 、 精密機器類 、 その他機器 、 その他 、 ゴム・皮革・プラスチック製品 、 窯業・土石製品類 、 非鉄金属・金属製品類 、 一般・産業用機器類 、 電気・通信用機器類 、 精密機器類 、 その他機器 、 その他 、 調査・研究 、 その他

事業概要

-

設立年月日

1962年09月01日

創業年

-

データ最終更新日

2018年06月11日

届出認定情報

• 2021年09月17日

  ＰＲＴＲ

  化学工業

  部門：経済産業大臣

  企業規模： 中企業

  府省：経済産業省

補助金情報

• 地域イノベーション・基盤高度化促進委託費

  2010年01月01日

  4,819,500円

  対象

  携帯電話などの情報処理の高速化、ディスプレイの大型化、カメラ内蔵等の高機能化により消費電力がますます増加しており、高効率な電力変換を可能にする高性能なパワーインダクタが必要とされている。このようなデバイスに応用するため積層チップパワーインダクタの高機能化の研究開発が必要とされている。この課題を解決するため、ナノフェライト粒子の量産製造技術の開発と応用展開を行うものである。

  府省

  経済産業省

• 地域イノベーション・基盤高度化促進委託費

  2011年01月01日

  6,599,250円

  対象

  携帯電話などの情報処理の高速化、ディスプレイの大型化、カメラ内蔵等の高機能化により消費電力がますます増加しており、高効率な電力変換を可能にする高性能なパワーインダクタが必要とされている。このようなデバイスに応用するため積層チップパワーインダクタの高機能化の研究開発が必要とされている。この課題を解決するため、ナノフェライト粒子の量産製造技術の開発と応用展開を行うもの。

  府省

  経済産業省

特許情報

• 特許　2015116873

  2015年06月09日

  特許分類

  C23C 14/34
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  スパッタリングターゲット組立体

• 特許　2015116873

  2015年06月09日

  特許分類

  C23C 14/34 C
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  スパッタリングターゲット組立体

• 特許　2015116873

  2015年06月09日

  特許分類

  H01L 21/285
  基本的電気素子

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  スパッタリングターゲット組立体

• 特許　2015116873

  2015年06月09日

  特許分類

  H01L 21/285 S
  基本的電気素子

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  スパッタリングターゲット組立体

• 特許　2015161146

  2015年08月18日

  特許分類

  C23C 14/34
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  直流スパッタ用スパッタリングターゲットおよびその製造方法

• 特許　2015161146

  2015年08月18日

  特許分類

  C23C 14/34 A
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  直流スパッタ用スパッタリングターゲットおよびその製造方法

• 特許　2015161146

  2015年08月18日

  特許分類

  H01B 1/02
  基本的電気素子

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  直流スパッタ用スパッタリングターゲットおよびその製造方法

• 特許　2015161146

  2015年08月18日

  特許分類

  H01B 1/02 Z
  基本的電気素子

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  直流スパッタ用スパッタリングターゲットおよびその製造方法

• 特許　2015176252

  2015年09月08日

  特許分類

  C04B 35/04
  セメント; コンクリ－ト; 人造石; セラミックス; 耐火物

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  スパッタリングターゲット

• 特許　2015176252

  2015年09月08日

  特許分類

  C04B 35/04 Z
  セメント; コンクリ－ト; 人造石; セラミックス; 耐火物

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  スパッタリングターゲット

• 特許　2015176252

  2015年09月08日

  特許分類

  C23C 14/08
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  スパッタリングターゲット

• 特許　2015176252

  2015年09月08日

  特許分類

  C23C 14/08 K
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  スパッタリングターゲット

• 特許　2015176252

  2015年09月08日

  特許分類

  C23C 14/34
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  スパッタリングターゲット

• 特許　2015176252

  2015年09月08日

  特許分類

  C23C 14/34 A
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  スパッタリングターゲット

• 商標　2017118386

  2017年09月07日

  商標コード

  11
  照明用、加熱用、蒸気発生用、調理用、冷却用、乾燥用、換気用、給水用又は衛生用の装置

  表示用商標

  日本テスコ

• 商標　2018130310

  2018年10月18日

  商標コード

  7
  加工機械、原動機(陸上の乗物用のものを除く。)その他の機械

  表示用商標

  ＡｃｒｏＳｔａｒ

• 特許　2010213074

  2010年09月24日

  特許分類

  C23C 14/34
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  バッキングプレートの製造方法

• 特許　2010213074

  2010年09月24日

  特許分類

  C23C 14/34 C
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  バッキングプレートの製造方法

• 特許　2011087856

  2011年04月12日

  特許分類

  C23C 14/34
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  スパッタリングターゲットの製造方法

• 特許　2011087856

  2011年04月12日

  特許分類

  C23C 14/34 A
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  スパッタリングターゲットの製造方法

• 特許　2011087856

  2011年04月12日

  特許分類

  H01L 21/203
  基本的電気素子

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  スパッタリングターゲットの製造方法

• 特許　2011087856

  2011年04月12日

  特許分類

  H01L 21/203 S
  基本的電気素子

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  スパッタリングターゲットの製造方法

• 特許　2011087856

  2011年04月12日

  特許分類

  H01S 5/323
  基本的電気素子

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  スパッタリングターゲットの製造方法

• 特許　2011087856

  2011年04月12日

  特許分類

  H01S 5/323 610
  基本的電気素子

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  スパッタリングターゲットの製造方法

• 商標　2012027534

  2012年04月09日

  商標コード

  1
  工業用、科学用又は農業用の化学品

  表示用商標

  Ｓｍａｒｔｅｃ

• 商標　2012060033

  2012年07月25日

  商標コード

  1
  工業用、科学用又は農業用の化学品

  表示用商標

  バケるくん

• 商標　2012086280

  2012年10月25日

  商標コード

  1
  工業用、科学用又は農業用の化学品

  表示用商標

  ケミーちゃん

• 特許　2013507276

  2012年02月23日

  特許分類

  C07F 5/00 CSP
  有機化学

  テーマコード

  4H048

  発明の名称

  ユーロピウム含有薄膜形成用前駆体及びユーロピウム含有薄膜の形成方法

• 特許　2013507276

  2012年02月23日

  特許分類

  C07F 5/00 CSPD
  有機化学

  テーマコード

  4H048

  発明の名称

  ユーロピウム含有薄膜形成用前駆体及びユーロピウム含有薄膜の形成方法

• 特許　2013507276

  2012年02月23日

  特許分類

  C23C 16/40
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4H048

  発明の名称

  ユーロピウム含有薄膜形成用前駆体及びユーロピウム含有薄膜の形成方法

• 特許　2013507276

  2012年02月23日

  特許分類

  H01L 21/316
  基本的電気素子

  テーマコード

  4H048

  発明の名称

  ユーロピウム含有薄膜形成用前駆体及びユーロピウム含有薄膜の形成方法

• 特許　2013507276

  2012年02月23日

  特許分類

  H01L 21/316 X
  基本的電気素子

  テーマコード

  4H048

  発明の名称

  ユーロピウム含有薄膜形成用前駆体及びユーロピウム含有薄膜の形成方法

• 特許　2013507276

  2012年02月23日

  特許分類

  H01L 21/318
  基本的電気素子

  テーマコード

  4H048

  発明の名称

  ユーロピウム含有薄膜形成用前駆体及びユーロピウム含有薄膜の形成方法

• 特許　2013507276

  2012年02月23日

  特許分類

  H01L 21/318 B
  基本的電気素子

  テーマコード

  4H048

  発明の名称

  ユーロピウム含有薄膜形成用前駆体及びユーロピウム含有薄膜の形成方法

• 特許　2015122637

  2011年04月12日

  特許分類

  C01B 21/06
  無機化学

  テーマコード

  4G043

  発明の名称

  白色ＧａＮ粉末の製造方法

• 特許　2015122637

  2011年04月12日

  特許分類

  C01B 21/06 A
  無機化学

  テーマコード

  4G043

  発明の名称

  白色ＧａＮ粉末の製造方法

• 特許　2015122637

  2011年04月12日

  特許分類

  C23C 14/34
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4G043

  発明の名称

  白色ＧａＮ粉末の製造方法

• 特許　2015122637

  2011年04月12日

  特許分類

  C23C 14/34 A
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4G043

  発明の名称

  白色ＧａＮ粉末の製造方法

• 特許　2017232028

  2013年07月16日

  特許分類

  C23C 14/34
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  スパッタリングターゲット接合体及びこれを用いた成膜方法

• 特許　2017232028

  2013年07月16日

  特許分類

  C23C 14/34 C
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  4K029

  発明の名称

  スパッタリングターゲット接合体及びこれを用いた成膜方法