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アルバック成膜株式会社

法人番号：9030001090640

アルバック成膜株式会社は、 埼玉県秩父市寺尾２８０４番地にある法人です。

基本情報

法人番号
9030001090640
法人名称/商号
アルバック成膜株式会社
法人名称/商号（カナ）
アルバックセイマク
法人名称/商号（英語）
-
所在地
〒3680056
埼玉県秩父市寺尾２８０４番地
代表者
-
資本金
-
従業員数

215人

内、女性15人、男性200人

営業品目
-
事業概要

半導体用フォトマスクブランクス、ＦＰＤ用薄膜製品及びパターン品の製造・販売

設立年月日
-
創業年
-
データ最終更新日
2018年10月02日

表彰情報

  • 両立支援のひろば　一般事業主行動計画公表

    府省
    厚生労働省

特許情報

  • 特許　2014130103

    2014年06月25日
    特許分類
    H01L 23/14 C
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    貫通電極基板の製造方法

  • 特許　2014130103

    2014年06月25日
    特許分類
    H01L 23/15
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    貫通電極基板の製造方法

  • 特許　2014130103

    2014年06月25日
    特許分類
    H01L 23/32
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    貫通電極基板の製造方法

  • 特許　2014130103

    2014年06月25日
    特許分類
    H01L 23/32 D
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    貫通電極基板の製造方法

  • 特許　2014130103

    2014年06月25日
    特許分類
    H05K 1/11
    他に分類されない電気技術
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    貫通電極基板の製造方法

  • 特許　2014130103

    2014年06月25日
    特許分類
    H05K 1/11 N
    他に分類されない電気技術
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    貫通電極基板の製造方法

  • 特許　2014130103

    2014年06月25日
    特許分類
    H05K 3/40
    他に分類されない電気技術
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    貫通電極基板の製造方法

  • 特許　2014130103

    2014年06月25日
    特許分類
    H05K 3/40 K
    他に分類されない電気技術
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    貫通電極基板の製造方法

  • 特許　2014160765

    2014年08月06日
    特許分類
    C03B 33/04
    ガラス; 鉱物またはスラグウ－ル
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    貫通電極基板の製造方法および貫通電極基板

  • 特許　2014160765

    2014年08月06日
    特許分類
    C03C 19/00
    ガラス; 鉱物またはスラグウ－ル
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    貫通電極基板の製造方法および貫通電極基板

  • 特許　2014160765

    2014年08月06日
    特許分類
    C03C 19/00 A
    ガラス; 鉱物またはスラグウ－ル
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    貫通電極基板の製造方法および貫通電極基板

  • 特許　2014160765

    2014年08月06日
    特許分類
    H01L 23/12
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    貫通電極基板の製造方法および貫通電極基板

  • 特許　2014160765

    2014年08月06日
    特許分類
    H01L 23/12 Q
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    貫通電極基板の製造方法および貫通電極基板

  • 特許　2014160765

    2014年08月06日
    特許分類
    H01L 23/14
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    貫通電極基板の製造方法および貫通電極基板

  • 特許　2014160765

    2014年08月06日
    特許分類
    H01L 23/14 C
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    貫通電極基板の製造方法および貫通電極基板

  • 特許　2014160765

    2014年08月06日
    特許分類
    H01L 23/14 M
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    貫通電極基板の製造方法および貫通電極基板

  • 特許　2014160765

    2014年08月06日
    特許分類
    H01L 23/15
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    貫通電極基板の製造方法および貫通電極基板

  • 特許　2014160765

    2014年08月06日
    特許分類
    H01L 23/32
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    貫通電極基板の製造方法および貫通電極基板

  • 特許　2014160765

    2014年08月06日
    特許分類
    H01L 23/32 D
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    貫通電極基板の製造方法および貫通電極基板

  • 特許　2015059947

    2015年03月23日
    特許分類
    G03F 1/60
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    マスクブランクス、フォトマスク、その製造方法

  • 特許　2015059947

    2015年03月23日
    特許分類
    G03F 1/68
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    マスクブランクス、フォトマスク、その製造方法

  • 特許　2015512519

    2014年04月17日
    特許分類
    G03F 1/26
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクの製造方法、位相シフトマスク、及び位相シフトマスクの製造装置

  • 特許　2015512521

    2014年04月17日
    特許分類
    C23C 14/06
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクの製造方法および位相シフトマスク

  • 特許　2015512521

    2014年04月17日
    特許分類
    C23C 14/06 K
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクの製造方法および位相シフトマスク

  • 特許　2015512521

    2014年04月17日
    特許分類
    G03F 1/32
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクの製造方法および位相シフトマスク

  • 特許　2016021766

    2016年02月08日
    特許分類
    C23C 14/06
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K023

    発明の名称

    電鋳用マスク原版の機能部品、電鋳用マスク原版の機能部品の製造方法

  • 特許　2016021766

    2016年02月08日
    特許分類
    C23C 14/06 N
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K023

    発明の名称

    電鋳用マスク原版の機能部品、電鋳用マスク原版の機能部品の製造方法

  • 特許　2016021766

    2016年02月08日
    特許分類
    C23C 14/08
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K023

    発明の名称

    電鋳用マスク原版の機能部品、電鋳用マスク原版の機能部品の製造方法

  • 特許　2016021766

    2016年02月08日
    特許分類
    C23C 14/08 J
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K023

    発明の名称

    電鋳用マスク原版の機能部品、電鋳用マスク原版の機能部品の製造方法

  • 特許　2016021766

    2016年02月08日
    特許分類
    C23C 14/14
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K023

    発明の名称

    電鋳用マスク原版の機能部品、電鋳用マスク原版の機能部品の製造方法

  • 特許　2016021766

    2016年02月08日
    特許分類
    C23C 14/14 D
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K023

    発明の名称

    電鋳用マスク原版の機能部品、電鋳用マスク原版の機能部品の製造方法

  • 特許　2016021766

    2016年02月08日
    特許分類
    C25D 1/10
    電気分解または電気泳動方法; そのための装置
    テーマコード
    4K023

    発明の名称

    電鋳用マスク原版の機能部品、電鋳用マスク原版の機能部品の製造方法

  • 特許　2016057650

    2016年03月22日
    特許分類
    B08B 3/02
    清掃
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクブランクスの洗浄装置、位相シフトマスクブランクスの製造方法

  • 特許　2016057650

    2016年03月22日
    特許分類
    B08B 3/02 B
    清掃
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクブランクスの洗浄装置、位相シフトマスクブランクスの製造方法

  • 特許　2016057650

    2016年03月22日
    特許分類
    B08B 3/02 D
    清掃
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクブランクスの洗浄装置、位相シフトマスクブランクスの製造方法

  • 特許　2016057650

    2016年03月22日
    特許分類
    B08B 3/08
    清掃
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクブランクスの洗浄装置、位相シフトマスクブランクスの製造方法

  • 特許　2016057650

    2016年03月22日
    特許分類
    B08B 3/08 Z
    清掃
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクブランクスの洗浄装置、位相シフトマスクブランクスの製造方法

  • 特許　2016057650

    2016年03月22日
    特許分類
    G03F 1/32
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクブランクスの洗浄装置、位相シフトマスクブランクスの製造方法

  • 特許　2016057650

    2016年03月22日
    特許分類
    G03F 1/82
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクブランクスの洗浄装置、位相シフトマスクブランクスの製造方法

  • 特許　2016057650

    2016年03月22日
    特許分類
    H01L 21/304
    基本的電気素子
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクブランクスの洗浄装置、位相シフトマスクブランクスの製造方法

  • 特許　2016057650

    2016年03月22日
    特許分類
    H01L 21/304 643A
    基本的電気素子
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクブランクスの洗浄装置、位相シフトマスクブランクスの製造方法

  • 特許　2016057650

    2016年03月22日
    特許分類
    H01L 21/304 647Z
    基本的電気素子
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクブランクスの洗浄装置、位相シフトマスクブランクスの製造方法

  • 特許　2016065071

    2016年03月29日
    特許分類
    B05C 11/00
    霧化または噴霧一般; 液体または他の流動性材料の表面への適用一般
    テーマコード
    5F146

    発明の名称

    塗布装置、マスクブランクの製造方法

  • 特許　2016065071

    2016年03月29日
    特許分類
    B05C 11/105
    霧化または噴霧一般; 液体または他の流動性材料の表面への適用一般
    テーマコード
    5F146

    発明の名称

    塗布装置、マスクブランクの製造方法

  • 特許　2016065071

    2016年03月29日
    特許分類
    B05C 13/02
    霧化または噴霧一般; 液体または他の流動性材料の表面への適用一般
    テーマコード
    5F146

    発明の名称

    塗布装置、マスクブランクの製造方法

  • 特許　2016065071

    2016年03月29日
    特許分類
    B05D 1/26
    霧化または噴霧一般; 液体または他の流動性材料の表面への適用一般
    テーマコード
    5F146

    発明の名称

    塗布装置、マスクブランクの製造方法

  • 特許　2016065071

    2016年03月29日
    特許分類
    B05D 1/26 Z
    霧化または噴霧一般; 液体または他の流動性材料の表面への適用一般
    テーマコード
    5F146

    発明の名称

    塗布装置、マスクブランクの製造方法

  • 特許　2016065071

    2016年03月29日
    特許分類
    B05D 3/00
    霧化または噴霧一般; 液体または他の流動性材料の表面への適用一般
    テーマコード
    5F146

    発明の名称

    塗布装置、マスクブランクの製造方法

  • 特許　2016065071

    2016年03月29日
    特許分類
    B05D 3/00 C
    霧化または噴霧一般; 液体または他の流動性材料の表面への適用一般
    テーマコード
    5F146

    発明の名称

    塗布装置、マスクブランクの製造方法

  • 特許　2016065071

    2016年03月29日
    特許分類
    B05D 3/00 D
    霧化または噴霧一般; 液体または他の流動性材料の表面への適用一般
    テーマコード
    5F146

    発明の名称

    塗布装置、マスクブランクの製造方法

  • 特許　2016065071

    2016年03月29日
    特許分類
    B05D 3/00 G
    霧化または噴霧一般; 液体または他の流動性材料の表面への適用一般
    テーマコード
    5F146

    発明の名称

    塗布装置、マスクブランクの製造方法

  • 特許　2016065071

    2016年03月29日
    特許分類
    B05D 7/00
    霧化または噴霧一般; 液体または他の流動性材料の表面への適用一般
    テーマコード
    5F146

    発明の名称

    塗布装置、マスクブランクの製造方法

  • 特許　2016065071

    2016年03月29日
    特許分類
    B05D 7/00 K
    霧化または噴霧一般; 液体または他の流動性材料の表面への適用一般
    テーマコード
    5F146

    発明の名称

    塗布装置、マスクブランクの製造方法

  • 特許　2016065071

    2016年03月29日
    特許分類
    B05D 7/24
    霧化または噴霧一般; 液体または他の流動性材料の表面への適用一般
    テーマコード
    5F146

    発明の名称

    塗布装置、マスクブランクの製造方法

  • 特許　2016065071

    2016年03月29日
    特許分類
    B05D 7/24 301Z
    霧化または噴霧一般; 液体または他の流動性材料の表面への適用一般
    テーマコード
    5F146

    発明の名称

    塗布装置、マスクブランクの製造方法

  • 特許　2016065071

    2016年03月29日
    特許分類
    G03F 1/50
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    5F146

    発明の名称

    塗布装置、マスクブランクの製造方法

  • 特許　2016065071

    2016年03月29日
    特許分類
    G03F 1/54
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    5F146

    発明の名称

    塗布装置、マスクブランクの製造方法

  • 特許　2016065071

    2016年03月29日
    特許分類
    H01L 21/027
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F146

    発明の名称

    塗布装置、マスクブランクの製造方法

  • 特許　2016065071

    2016年03月29日
    特許分類
    H01L 21/30 564Z
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F146

    発明の名称

    塗布装置、マスクブランクの製造方法

  • 特許　2018536904

    2018年02月07日
    特許分類
    G03F 1/29
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    マスクブランクス、位相シフトマスク、ハーフトーンマスク、マスクブランクスの製造方法、及び位相シフトマスクの製造方法

  • 特許　2018536904

    2018年02月07日
    特許分類
    G03F 1/32
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    マスクブランクス、位相シフトマスク、ハーフトーンマスク、マスクブランクスの製造方法、及び位相シフトマスクの製造方法

  • 特許　2018536904

    2018年02月07日
    特許分類
    G03F 1/50
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    マスクブランクス、位相シフトマスク、ハーフトーンマスク、マスクブランクスの製造方法、及び位相シフトマスクの製造方法

  • 特許　2018536904

    2018年02月07日
    特許分類
    G03F 1/80
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    マスクブランクス、位相シフトマスク、ハーフトーンマスク、マスクブランクスの製造方法、及び位相シフトマスクの製造方法

  • 特許　2010024371

    2010年02月05日
    特許分類
    G03F 1/08
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H095

    発明の名称

    マスクブランクス及びハーフトーンマスク

  • 特許　2010024371

    2010年02月05日
    特許分類
    G03F 1/08 A
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H095

    発明の名称

    マスクブランクス及びハーフトーンマスク

  • 特許　2010091987

    2010年04月13日
    特許分類
    C03C 15/00
    ガラス; 鉱物またはスラグウ－ル
    テーマコード
    2H095

    発明の名称

    マスクブランクス、フォトマスクの製造方法及びフォトマスク

  • 特許　2010091987

    2010年04月13日
    特許分類
    C03C 15/00 D
    ガラス; 鉱物またはスラグウ－ル
    テーマコード
    2H095

    発明の名称

    マスクブランクス、フォトマスクの製造方法及びフォトマスク

  • 特許　2010091987

    2010年04月13日
    特許分類
    C03C 17/36
    ガラス; 鉱物またはスラグウ－ル
    テーマコード
    2H095

    発明の名称

    マスクブランクス、フォトマスクの製造方法及びフォトマスク

  • 特許　2010091987

    2010年04月13日
    特許分類
    G03F 1/14
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H095

    発明の名称

    マスクブランクス、フォトマスクの製造方法及びフォトマスク

  • 特許　2010091987

    2010年04月13日
    特許分類
    G03F 1/14 A
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H095

    発明の名称

    マスクブランクス、フォトマスクの製造方法及びフォトマスク

  • 特許　2010091987

    2010年04月13日
    特許分類
    G03F 1/14 Z
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H095

    発明の名称

    マスクブランクス、フォトマスクの製造方法及びフォトマスク

  • 特許　2010290403

    2010年12月27日
    特許分類
    G03F 1/08
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H095

    発明の名称

    ハーフトーンマスク、ハーフトーンマスクブランクス及びハーフトーンマスクの製造方法

  • 特許　2010290403

    2010年12月27日
    特許分類
    G03F 1/08 A
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H095

    発明の名称

    ハーフトーンマスク、ハーフトーンマスクブランクス及びハーフトーンマスクの製造方法

  • 特許　2011160773

    2011年07月22日
    特許分類
    B01J 19/00
    物理的または化学的方法または装置一般
    テーマコード
    4G075

    発明の名称

    マイクロ流路基板およびその製造方法

  • 特許　2011160773

    2011年07月22日
    特許分類
    B01J 19/00 321
    物理的または化学的方法または装置一般
    テーマコード
    4G075

    発明の名称

    マイクロ流路基板およびその製造方法

  • 特許　2011160773

    2011年07月22日
    特許分類
    B81B 1/00
    マイクロ構造技術
    テーマコード
    4G075

    発明の名称

    マイクロ流路基板およびその製造方法

  • 特許　2011160773

    2011年07月22日
    特許分類
    B81C 3/00
    マイクロ構造技術
    テーマコード
    4G075

    発明の名称

    マイクロ流路基板およびその製造方法

  • 特許　2011160773

    2011年07月22日
    特許分類
    C03C 15/00
    ガラス; 鉱物またはスラグウ－ル
    テーマコード
    4G075

    発明の名称

    マイクロ流路基板およびその製造方法

  • 特許　2011160773

    2011年07月22日
    特許分類
    C03C 15/00 D
    ガラス; 鉱物またはスラグウ－ル
    テーマコード
    4G075

    発明の名称

    マイクロ流路基板およびその製造方法

  • 特許　2011160773

    2011年07月22日
    特許分類
    C03C 27/10
    ガラス; 鉱物またはスラグウ－ル
    テーマコード
    4G075

    発明の名称

    マイクロ流路基板およびその製造方法

  • 特許　2011160773

    2011年07月22日
    特許分類
    C03C 27/10 B
    ガラス; 鉱物またはスラグウ－ル
    テーマコード
    4G075

    発明の名称

    マイクロ流路基板およびその製造方法

  • 特許　2011160773

    2011年07月22日
    特許分類
    G01N 37/00
    測定; 試験
    テーマコード
    4G075

    発明の名称

    マイクロ流路基板およびその製造方法

  • 特許　2011160773

    2011年07月22日
    特許分類
    G01N 37/00 101
    測定; 試験
    テーマコード
    4G075

    発明の名称

    マイクロ流路基板およびその製造方法

  • 特許　2011257948

    2011年11月25日
    特許分類
    G01N 27/06
    測定; 試験
    テーマコード
    2G060

    発明の名称

    溶液成分分析キット及びその製造方法、溶液成分分析システム、並びに被検体液の濃度測定方法

  • 特許　2011257948

    2011年11月25日
    特許分類
    G01N 27/06 Z
    測定; 試験
    テーマコード
    2G060

    発明の名称

    溶液成分分析キット及びその製造方法、溶液成分分析システム、並びに被検体液の濃度測定方法

  • 特許　2011257948

    2011年11月25日
    特許分類
    G01N 27/416
    測定; 試験
    テーマコード
    2G060

    発明の名称

    溶液成分分析キット及びその製造方法、溶液成分分析システム、並びに被検体液の濃度測定方法

  • 特許　2011257948

    2011年11月25日
    特許分類
    G01N 27/46 386G
    測定; 試験
    テーマコード
    2G060

    発明の名称

    溶液成分分析キット及びその製造方法、溶液成分分析システム、並びに被検体液の濃度測定方法

  • 特許　2012110574

    2012年05月14日
    特許分類
    B24B 29/00
    研削; 研磨
    テーマコード
    3C034

    発明の名称

    ウェハ支持体およびその製造方法

  • 特許　2012110574

    2012年05月14日
    特許分類
    B24B 29/00 F
    研削; 研磨
    テーマコード
    3C034

    発明の名称

    ウェハ支持体およびその製造方法

  • 特許　2012110574

    2012年05月14日
    特許分類
    B24B 41/06
    研削; 研磨
    テーマコード
    3C034

    発明の名称

    ウェハ支持体およびその製造方法

  • 特許　2012110574

    2012年05月14日
    特許分類
    B24B 41/06 J
    研削; 研磨
    テーマコード
    3C034

    発明の名称

    ウェハ支持体およびその製造方法

  • 特許　2012142050

    2012年06月25日
    特許分類
    B81C 1/00
    マイクロ構造技術
    テーマコード
    4G059

    発明の名称

    貫通孔形成方法及び貫通孔付きガラス基板

  • 特許　2012142050

    2012年06月25日
    特許分類
    C03C 15/00
    ガラス; 鉱物またはスラグウ－ル
    テーマコード
    4G059

    発明の名称

    貫通孔形成方法及び貫通孔付きガラス基板

  • 特許　2012142050

    2012年06月25日
    特許分類
    C03C 15/00 D
    ガラス; 鉱物またはスラグウ－ル
    テーマコード
    4G059

    発明の名称

    貫通孔形成方法及び貫通孔付きガラス基板

  • 特許　2012147609

    2012年06月29日
    特許分類
    B24C 1/04
    研削; 研磨
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    孔形成方法

  • 特許　2012147609

    2012年06月29日
    特許分類
    B24C 1/04 C
    研削; 研磨
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    孔形成方法

  • 特許　2012147609

    2012年06月29日
    特許分類
    B24C 1/04 F
    研削; 研磨
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    孔形成方法

  • 特許　2012147609

    2012年06月29日
    特許分類
    B81C 1/00
    マイクロ構造技術
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    孔形成方法

  • 特許　2012147609

    2012年06月29日
    特許分類
    H01L 23/14 C
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    孔形成方法

  • 特許　2012147609

    2012年06月29日
    特許分類
    H01L 23/15
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    孔形成方法

  • 特許　2012147609

    2012年06月29日
    特許分類
    H01L 23/32
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    孔形成方法

  • 特許　2012147609

    2012年06月29日
    特許分類
    H01L 23/32 D
    基本的電気素子
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    孔形成方法

  • 特許　2012147609

    2012年06月29日
    特許分類
    H05K 3/00
    他に分類されない電気技術
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    孔形成方法

  • 特許　2012147609

    2012年06月29日
    特許分類
    H05K 3/00 K
    他に分類されない電気技術
    テーマコード
    5F034

    発明の名称

    孔形成方法

  • 特許　2012285847

    2012年12月27日
    特許分類
    G03F 1/32
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクの製造方法、位相シフトマスク

  • 特許　2012285847

    2012年12月27日
    特許分類
    H01L 21/027
    基本的電気素子
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクの製造方法、位相シフトマスク

  • 特許　2012285847

    2012年12月27日
    特許分類
    H01L 21/30 502P
    基本的電気素子
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクの製造方法、位相シフトマスク

  • 特許　2013081256

    2013年04月09日
    特許分類
    C03C 27/00
    ガラス; 鉱物またはスラグウ－ル
    テーマコード
    4G026

    発明の名称

    基板の貼り合わせ方法および貼り合わせ基板

  • 特許　2013081256

    2013年04月09日
    特許分類
    C04B 37/04
    セメント; コンクリ－ト; 人造石; セラミックス; 耐火物
    テーマコード
    4G026

    発明の名称

    基板の貼り合わせ方法および貼り合わせ基板

  • 特許　2013081256

    2013年04月09日
    特許分類
    H01L 23/02
    基本的電気素子
    テーマコード
    4G026

    発明の名称

    基板の貼り合わせ方法および貼り合わせ基板

  • 特許　2013081256

    2013年04月09日
    特許分類
    H01L 23/02 Z
    基本的電気素子
    テーマコード
    4G026

    発明の名称

    基板の貼り合わせ方法および貼り合わせ基板

  • 特許　2013081256

    2013年04月09日
    特許分類
    H05K 3/28
    他に分類されない電気技術
    テーマコード
    4G026

    発明の名称

    基板の貼り合わせ方法および貼り合わせ基板

  • 特許　2013081256

    2013年04月09日
    特許分類
    H05K 3/28 A
    他に分類されない電気技術
    テーマコード
    4G026

    発明の名称

    基板の貼り合わせ方法および貼り合わせ基板

  • 特許　2013086980

    2013年04月17日
    特許分類
    G03F 1/32
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクの製造方法

  • 特許　2013086980

    2013年04月17日
    特許分類
    G03F 1/80
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクの製造方法

  • 特許　2013086981

    2013年04月17日
    特許分類
    G03F 1/29
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクの製造方法

  • 特許　2013086984

    2013年04月17日
    特許分類
    G03F 1/26
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクの製造方法

  • 特許　2013100441

    2013年05月10日
    特許分類
    B22F 9/00
    鋳造; 粉末冶金
    テーマコード
    4K017

    発明の名称

    金属微粒子の製造装置および金属微粒子の製造方法

  • 特許　2013100441

    2013年05月10日
    特許分類
    B22F 9/00 A
    鋳造; 粉末冶金
    テーマコード
    4K017

    発明の名称

    金属微粒子の製造装置および金属微粒子の製造方法

  • 特許　2013100441

    2013年05月10日
    特許分類
    B22F 9/08
    鋳造; 粉末冶金
    テーマコード
    4K017

    発明の名称

    金属微粒子の製造装置および金属微粒子の製造方法

  • 特許　2013100441

    2013年05月10日
    特許分類
    B22F 9/08 C
    鋳造; 粉末冶金
    テーマコード
    4K017

    発明の名称

    金属微粒子の製造装置および金属微粒子の製造方法

  • 特許　2013100441

    2013年05月10日
    特許分類
    B23K 35/40
    工作機械; 他に分類されない金属加工
    テーマコード
    4K017

    発明の名称

    金属微粒子の製造装置および金属微粒子の製造方法

  • 特許　2013100441

    2013年05月10日
    特許分類
    B23K 35/40 340F
    工作機械; 他に分類されない金属加工
    テーマコード
    4K017

    発明の名称

    金属微粒子の製造装置および金属微粒子の製造方法

  • 特許　2014501331

    2013年06月05日
    特許分類
    G03F 1/29
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H095

    発明の名称

    位相シフトマスクの製造方法

  • 特許　2014548593

    2013年11月20日
    特許分類
    C03C 15/00
    ガラス; 鉱物またはスラグウ－ル
    テーマコード
    4G059

    発明の名称

    機能部品の製造方法

  • 特許　2014548593

    2013年11月20日
    特許分類
    C03C 15/00 D
    ガラス; 鉱物またはスラグウ－ル
    テーマコード
    4G059

    発明の名称

    機能部品の製造方法

  • 特許　2014554374

    2013年12月19日
    特許分類
    G03F 1/32
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクおよびその製造方法

  • 特許　2014554380

    2013年12月19日
    特許分類
    G03F 1/32
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクおよびその製造方法

  • 特許　2014554380

    2013年12月19日
    特許分類
    G03F 1/54
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクおよびその製造方法

  • 特許　2014554380

    2013年12月19日
    特許分類
    G03F 1/80
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H195

    発明の名称

    位相シフトマスクおよびその製造方法

職場情報

平均継続勤務年数

範囲：-

男性：-

女性：-

正社員の平均：-

従業員の平均年齢
-
月平均所定外労働時間
-
女性労働者の割合

範囲：-

-

管理職人数

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役員人数

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育児休業取得者

対象者：男性 -人、女性 -人

取得者：男性 -人、女性 -人