法人情報を詳細検索

全国法人総覧

リソテック株式会社

法人番号:9080001017894

リソテック株式会社は、 東京都大田区大森北3丁目20番10号にある法人です。

基本情報

法人番号
9080001017894
法人名称/商号
リソテック株式会社
法人名称/商号(カナ)
リソテック
法人名称/商号(英語)
-
所在地
〒1430016
東京都大田区大森北3丁目20番10号
代表者
-
資本金
-
従業員数

-

営業品目
-
事業概要

-

設立年月日
-
創業年
-
データ最終更新日
2019年01月10日

特許情報

  • 特許 2014009285

    2014年01月22日
    特許分類
    G02B 13/22
    光学
    テーマコード
    2H087

    発明の名称

    投影光学系、投影露光装置、及びデバイス製造方法

  • 特許 2014009285

    2014年01月22日
    特許分類
    G02B 13/24
    光学
    テーマコード
    2H087

    発明の名称

    投影光学系、投影露光装置、及びデバイス製造方法

  • 特許 2014009285

    2014年01月22日
    特許分類
    G03F 7/20
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H087

    発明の名称

    投影光学系、投影露光装置、及びデバイス製造方法

  • 特許 2014009285

    2014年01月22日
    特許分類
    G03F 7/20 501
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H087

    発明の名称

    投影光学系、投影露光装置、及びデバイス製造方法

  • 特許 2014009285

    2014年01月22日
    特許分類
    H01L 21/027
    基本的電気素子
    テーマコード
    2H087

    発明の名称

    投影光学系、投影露光装置、及びデバイス製造方法

  • 特許 2014009285

    2014年01月22日
    特許分類
    H01L 21/30 515D
    基本的電気素子
    テーマコード
    2H087

    発明の名称

    投影光学系、投影露光装置、及びデバイス製造方法

  • 特許 2011193913

    2011年09月06日
    特許分類
    G02B 13/24
    光学
    テーマコード
    2H087

    発明の名称

    投影光学系

  • 特許 2011193913

    2011年09月06日
    特許分類
    G02B 13/26
    光学
    テーマコード
    2H087

    発明の名称

    投影光学系

  • 特許 2011193913

    2011年09月06日
    特許分類
    G03F 7/20
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H087

    発明の名称

    投影光学系

  • 特許 2011193913

    2011年09月06日
    特許分類
    G03F 7/20 501
    写真; 映画; 光波以外の波を使用する類似技術; 電子写真; ホログラフイ
    テーマコード
    2H087

    発明の名称

    投影光学系

  • 特許 2011193913

    2011年09月06日
    特許分類
    H01L 21/027
    基本的電気素子
    テーマコード
    2H087

    発明の名称

    投影光学系

  • 特許 2011193913

    2011年09月06日
    特許分類
    H01L 21/30 515D
    基本的電気素子
    テーマコード
    2H087

    発明の名称

    投影光学系